​半导体研磨车间的无尘车间要求。

发布日期:2021-09-27 浏览次数:472


应用行业:半导体行业  研磨工艺

应用产品:初效过滤器中效过滤器高效空气过滤器


半导体研磨工艺:

磨削和研磨等磨料处理是生产半导体芯片的必要方式,然而研磨会导致芯片表面的完整性变差。因此,抛光的一致性、均匀性和表面粗糙度对生产芯片来说是十分重要的。研磨利用涂敷或压嵌在研具上的磨料颗粒,通过研具与工件在一定压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工。研磨可用于加工各种金属和非金属材料,加工的表面形状有平面,内、外圆柱面和圆锥面,凸、凹球面,螺纹,齿面及其他型面。加工精度可达IT5~IT1,表面粗糙度可达Ra0.63~0.01微米。


抛光是利用机械、化学或电化学的作用,使工件表面粗糙度降低,以获得光亮、平整表面的加工方法。两者的主要区别在于:抛光达到的表面光洁度要比研磨更高,并且可以采用化学或者电化学的方法,而研磨基本只采用机械的方法,所使用的磨料粒度要比抛光用的更粗,即粒度大。故生产芯片,研磨抛光都是必不可少的一个方式。


研磨时磨料的工作状态:

1)研磨颗粒在家具与研磨盘之间发生滚动,产生滚轧效果。

2) 研磨颗粒压入到盘磨盘表面,实现微切削加工。


需要注意的地方:

1)研磨后肉眼观察无任何划伤后才可进行抛光,如有划伤应是研磨料被污染,应清洗盘磨盘、夹具、导流槽等。清洗后再研磨可解决划伤问题。

2)研磨芯片时如出现一致性较差和均匀性较差,可测量研磨盘平整度,修盘后可解决。


无尘车间要求:

由于半导体的研磨加工工艺是一个十分精密的加工过程,任何细小的灰尘都能造成半成品的不良,因为,对研磨加工车间的无尘要求是相当高的,不同的半导体生产工艺制程对车间的无尘洁净度的要求各不相同,例如:光刻工艺要求在1级的微环境下,而化学机械研磨则只要求1000级的环境才可以进行顺利生产,这对高效过滤器的要求极高,任何一个高效过滤器产品的不良,都可能导致整个研磨加工产品的不良。