​半导体腐蚀光刻车间应用:高效过滤器及均流膜。

发布日期:2021-09-26 浏览次数:399


应用行业:半导体制造、腐蚀光刻

使用产品:初效过滤器高效过滤器均流膜FFU

供应厂家:洁斐然


腐蚀光刻工艺:

在半导体制造工艺中,蚀刻使用各种技术选择习惯地在衬底上移除薄膜,并且通过这一移除的过程在衬底表面形成了材料的图形,光罩定义了图形的形状,这一图形定义过程称为显影,一旦光罩的图案被定义,没有被定义的部分即被蚀刻,这一过程我们称为湿法或者干法蚀刻,历史上,湿法蚀刻在图形定义中扮演了重要的角色,直到VLSI和ULSI时代,随着关键尺寸变小&表面形貌变得更为重要,湿法蚀刻被干法蚀刻所替代,


这一替代主要是因为湿法蚀刻是各向同性蚀刻,湿法蚀刻从各个方向移除材料(如下图所示),因此导致了在衬底上复制的材料图形与掩膜图形不一致,相比LSI时代,VLSI与ULSI时代需要更精细的光罩来定义图形的关键尺寸,此外,在先进器件中需要高深宽比的图形,这需要各向异性蚀刻,下图显示了各向同性蚀刻和各向异性蚀刻在方向上的差别。


各向同性等离子蚀刻(化学)

反应离子蚀刻(化学/物理)

溅射蚀刻(物理)

离子铣(物理)

离子束辅助蚀刻(物理)

反应离子束蚀刻(化学/物理)


在半导体的腐蚀光刻的生产工艺中,需要要求比较高的无尘车间,所需要洁斐然的产品有:初效过滤器、高效过滤器均流膜FFU等其他的产品,在具体的车间设计及改造方面,有疑问的,可以咨询洁斐然。