​空气过滤器应用:半导体无尘车间。

发布日期:2021-08-16 浏览次数:81

关键词:半导体无尘车间、空气过滤、无尘车间


半导体生产车间对空气洁净度要求非常高,空气净化的好坏直接关系着产品的良品率,半导体生产车间安装空气过滤器,提高空气的洁净度,空气过滤器在半导体行业的应用,高级半导体制造的完整解决方案来,提高工艺良品率,在半导体生产车间中,微污染会带来巨大的问题。

无尘车间洁净室

洁斐然提供了广泛的解决方案-无尘车间空气过滤器,HEPA和ULPA过滤器以及AMC控制解决方案-可以将无尘室中的颗粒物和分子浓度降低到颗粒物的ISO 1级水平和AMC的亚PPB水平。


AMC过滤器和控制比无尘室过滤更重要?

空气传播的分子污染(AMC)对小尺寸半导体制造提出了特殊挑战。酸,碱,有机物,耐火材料和掺杂剂的不良化学反应会影响晶片表面和工艺设备的光学器件,从而在芯片生产过程中产生缺陷,并降低设备和工具的效率。

在关键的无尘洁净车间的制造过程中,AMC越来越重要。随着规格要求的提高和设备尺寸的缩小,过程控制面临巨大的压力。晶圆可以在工厂内呆上一个月的时间,在交付最终产品之前要经过数百个过程。该工艺链中任何微小的污染影响都可能对晶圆厂的整体成品率造成严重影响。


另一个挑战在于更大尺寸的晶圆的普遍化,这增加了单个晶圆的成本,并增加了在工具级别对纳米颗粒和AMC保护的需求。此外,EUV和多图案DUV光刻中使用的无缺陷掩模的成本不断上涨,这给设施以及小型环境(如检查设备和掩模库存机)的污染控制系统带来了压力。


保护您的工艺设备和晶圆免受纳米颗粒和空气中的分子污染物的侵害,洁斐然空气过净化解决方案在半导体制造环境中提供了经过现场和实验室验证的保护,包括光刻,蚀刻,扩散,金属化,薄膜,离子注入,检查工具以及标线片或晶圆存储区。